基本情報

写真b

森川 良忠

MORIKAWA Yoshitada


キーワード

物理学,量子シミュレーション,表面・界面科学

メールアドレス

メールアドレス

電話番号

06-6879-7288

FAX番号

06-6879-7290

URL

http://www-cp.prec.eng.osaka-u.ac.jp/

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2004年04月01日 ~ 2007年03月31日,産業科学研究所,助教授,専任

  • 2007年04月01日 ~ 2009年09月30日,産業科学研究所,准教授,専任

  • 2009年10月01日 ~ 継続中,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

京都大学 理学部  卒業 理学士 1989年03月
京都大学 理学研究科 化学専攻 修了 理学修士 1991年03月
東京大学 理学系研究科 物理学専攻 修了 理学博士 1994年03月

職歴 【 表示 / 非表示

日本学術振興会 特別研究員(DC) 1992年04月 ~ 1994年03月
日本学術振興会 特別研究員(PD) 1994年04月 ~ 1995年03月
通商産業省 工業技術院 産業技術融合領域研究所・研究員 1995年04月 ~ 1998年09月
通商産業省 工業技術院 産業技術融合領域研究所・主任研究官 1998年10月 ~ 2001年03月
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科・客員助教授 2000年04月 ~ 2002年03月
独立行政法人 産業技術総合研究所・主任研究員 2001年04月 ~ 2004年03月
デンマーク工科大学 物理学教室・客員助教授 2003年04月 ~ 2004年03月
大阪大学 産業科学研究所・助教授(2007年4月より准教授) 2004年03月 ~ 2009年09月
大阪大学 大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻 ・ 教授 2009年10月 ~ 継続中

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 日本化学会

  • 日本物理学会

  • 日本表面科学会

  • 応用物理学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water,D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, N. Kidani, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Morikawa, and K. Yamauchi,Review of Scientific Instruments,Volume 90, Issue 4, p. 045115,2019年04月,学術論文

  • Van der Waals Density Functional Study of Formic Acid Adsorption and Decomposition on Cu(111),Septia Eka Marsha Putra, Fahdzi Muttaqien, Yuji Hamamoto, Kouji Inagaki, Ikutaro Hamada, and Yoshitada Morikawa,J. Chem. Phys.,150, 154707-1-10 ,2019年04月,学術論文

  • Experimental and Computational Studies on Ruthenium(II) Bis-diimine Complexes of N,N'-Chelate Ligand: The Origin of the Change in the Absorption Spectra upon Oxidation and Reduction,Siew San Tan, Susumu Yanagisawa, Kouji Inagaki, Mohammad B. Kassim and Yoshitada Morikawa,Phys. Chem. Chem. Phys.,21, 7973-7988,2019年03月,学術論文

  • Platinum Single-atom Adsorption on Graphene: A Density Functional Theory Study,Sasfan Arman Wella, Yuji Hamamoto, Suprijadi, Yoshitada Morikawa, and Ikutaro Hamada,Nanoscale Adv.,1, 1165-1174,2019年01月,学術論文

  • First-principles study of polar, nonpolar, and semipolar GaN surfaces during oxide vapor phase epitaxy growth,Takahiro Kawamura*, Akira Kitamoto, Mamoru Imade, Masashi Yoshimura, Yusuke Mori, Yoshitada Morikawa, Yoshihiro Kangawa, Koichi Kakimoto, and Toru Akiyama,Japanese Journal of Applied Physics,57, 115504-1-7,2018年10月,学術論文

全件表示 >>

著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,機能構造科学入門 3D活性サイトと物質デザイン,大門寛, 佐々木裕次 (監修) 石井宏幸, 岡 大地, 久保園芳博, 郷原一寿, 小林伸彦, 佐々木裕次, 塩谷浩之, 大門寛, 鷹野優, 林好一, 広瀬賢二, 福村知昭, 松井文彦, 松下智裕, 森川良忠, 山崎順, 山田容子, 若林裕助,丸善出版,ISBN,978-4-621-30060-2 C 3058,2016年07月

  • 教科書,現代表面科学シリーズ 6 問題と解説で学ぶ表面科学,森川良忠 (分担執筆),共立出版,ISBN,978-4-320-03374,2013年10月

  • 教科書,現代表面科学シリーズ2 表面科学の基礎、第6章 表面の計算科学,森川良忠 (分担執筆),共立出版,ISBN,978-4-320-03373-3,2013年06月

  • 専門著書,The Molecule-Metal Interface, Chap. 3 Understanding the Metal-Molecule Interface from First Principles,Leeor Kronik and Yoshitada Morikawa (Collective writing),Wiley,ISBN,978-3-527-41060-6,2013年02月

  • 専門著書,密度汎関数法の発展、第7章 不均一触媒反応過程の第一原理シミュレーション,森川良忠 (分担執筆),丸善,ISBN,978-4-621-06308-8,2012年06月

全件表示 >>

受賞 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 論文賞,筒井一生, 松下 智裕, 名取 鼓太郞, 室 隆桂之, 森川 良忠, 星井 拓也, 角嶋 邦之, 若林 整, 林 好一, 松井 文彦, 木下 豊彦,公益社団法人 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会,2019年03月

  • 日本表面真空学会フェロー,森川 良忠,日本表面真空学会,2018年05月

  • 第14回日本物理学会論文賞,森川良忠、(濱田幾太郎、大谷実、杉野修、岡本穏治、池庄司民夫と共同),社団法人 日本物理学会,2009年03月

 

講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • 公開ワークショップ 2つの大学で国際的に学位取得を目指すには,「応用物理学分野のダブルディグリープログラムの進展」,2018年03月