基本情報

写真b

安武 潔

YASUTAKE Kiyoshi


キーワード

材料科学,薄膜工学

URL

http://www-ms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/jpn/index.html

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 1999年04月01日 ~ 2003年02月28日,工学研究科,助教授,専任

  • 2003年03月01日 ~ 2003年07月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助教授,専任

  • 2003年08月01日 ~ 2020年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,教授,専任

  • 2020年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 物理学系専攻,教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 精密工学科 卒業 1978年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学助手 1983年04月 ~ 1990年09月
大阪大学助教授 1990年10月 ~ 2003年07月
大阪大学教授 2003年08月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • 原子レベルで制御された薄膜・表面創成プロセスと機能評価に関する研究,
    大気圧プラズマCVDによるエピタキシャルSi薄膜の低温・高速成長と物性評価,
    成膜プロセスにおける表面反応機構とその制御に関する研究,
    ナノ構造形成による成膜基板の表面制御に関する研究

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 日本金属学会

  • 応用物理学会

  • 精密工学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Determination of plasma impedance of microwave plasma system by electric field simulation,Mitsutoshi Shuto, Hiromasa Ohmi, Hiroaki Kakiuchi, Takahiro Yamada, and Kiyoshi Yasutake,Journal of Applied Physics,122(4) 043303-1-043303-8,2017年07月,学術論文

  • Atmospheric-pressure low-temperature plasma processes for thin film deposition,H. Kakiuchi, H. Ohmi, and K. Yasutake,J. Vac. Sci. Technol. A,Vol. 32, No. 3, 030801-1-16,2014年05月,学術論文

  • Study of the interaction between molten indium and sub-atmospheric pressure hydrogen glow discharge for low-temperature nanostructured metallic particle film deposition,H. Ohmi, H. Kakiuchi and K. Yasutake,Journal of Alloys and Compounds,,728 1217-1225,2017年09月,学術論文

  • Atmospheric-Pressure Low-Temperature Plasma Processes,H. Kakiuchi, H. Ohmi, K. Yasutake,Encyclopedia of Plasma Technology,November 16, 2016 ,2016年11月,解説・総説

  • Copper dry etching by sub-atmospheric-pressure pure hydrogen glow plasma,Hiromasa Ohmi, Jumpei Sato, Tatsuya Hirano, Yusuke Kubota, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake,Applied Physics Letters,109 211603-1-211603-5,2016年11月,学術論文

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著書 【 表示 / 非表示

  • その他,大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用 「月間ディスプレイ」,垣内弘章,大参宏昌,安武 潔,(株)テクノタイムズ社,2013年11月

  • 専門著書,大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著),垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔,株式会社オプトロニクス社,2012年06月

  • 専門著書,大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著),安武潔,垣内弘章,大参宏昌,サイエンス&テクノロジー株式会社,ISBN,978-4-86428-039-6,2012年03月

  • 専門著書,大気圧プラズマの技術とプロセス開発,垣内弘章,大参宏昌,安武潔,株式会社シーエムシー出版,ISBN,978-4-7813-0407-6,2011年08月

  • 専門著書,Preparation of Si-Based Thin Films Using Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapour Deposition (CVD) (共著),K. Yasutake, H. Kakiuchi, H. Ohmi,"Generation and Application of Atmospheric Pressure Plasmas" NOVA,ISBN,978-2-61209-717-6,2011年04月

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,フルオロカーボン膜の成膜方法及び成膜装置,大参宏昌,田中智之,安武潔,2018-186813(出願),2018年10月

  • 日本,透明導電膜の成膜装置および形成方法,垣内弘章,安武 潔,岡崎真也,長谷川千尋,特願2010-209158(出願),2010年09月

  • 日本,成膜装置,柴田哲司,平井孝彦,垣内弘章,安武潔,特願2010-070769(出願),2010年03月

  • 日本,モノシラン生成装置およびモノシラン生成方法,舩木毅,中濱康治,大参宏昌,安武潔,2009-143461(出願),2009年06月

  • 日本,プラズマエッチング方法、およびプラズマエッチング装置,中濱康治,舩木毅,大参宏昌,安武潔,2009-143462(出願),2009年06月

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受賞 【 表示 / 非表示

  • 精密工学会沼田記念論文賞,森 勇藏, 芳井熊安, 安武 潔, 垣内弘章, 大参宏昌, 和田勝男,社団法人精密工学会,2004年03月

  • Poster award of excellence,H.Takemoto, Y. Ishikawa, H. Kakiuchi, K. Yasutake, H. Ohmi,Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology,2015年11月

  • 2003年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞「機能性薄膜」,安武潔,垣内弘章,精密工学会,2003年10月

  • 精密工学会関西支部講演論文賞,安武 潔、竹内昭博、垣内弘章、芳井熊安、川辺秀昭、岩本文男、岩本敬,精密工学会関西支部,1994年07月

研究シーズ 【 表示 / 非表示

  • PFC系ガスを用いないプラズマエッチング