著書

分割表示  10 件中 1 - 10 件目  ／  全件表示 >>

  1. 専門著書，大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. （共著），垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔，株式会社オプトロニクス社，2012年06月

  2. 専門著書，大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成　「改訂版　大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 （共著），安武潔，垣内弘章，大参宏昌，サイエンス＆テクノロジー株式会社，ＩＳＢＮ，978-4-86428-039-6，2012年03月

  3. 専門著書，薄膜Si太陽電池開発に向けたプラズマCVD技術　「大気圧プラズマの技術とプロセス開発」 pp.83-91. 2011 （共著），垣内弘章，大参宏昌，安武潔，株式会社シーエムシー出版，ＩＳＢＮ，978-4-7813-0407-6，2011年08月

  4. 専門著書，Preparation of Si-Based Thin Films Using Atmospheric Oressure Plasma Chemical Vapour Deposition (CVD) （共著），K. Yasutake, H. Kakiuchi, H. Ohmi，"Generation and Application of Atmospheric Pressure Plasmas" NOVA，ＩＳＢＮ，978-2-61209-717-6，2011年04月

  5. 専門著書，大気圧プラズマを用いた低温・高速成膜技術, ケミカルエンジニヤリング 55[12], pp. 1–7 (2010).，垣内弘章, 大参宏昌, 安武　潔，化学工業社，2010年12月

  6. 専門著書，新コーティングのすべて，垣内弘章, 大参宏昌, 安武　潔，加工技術研究会，2009年10月

  7. 専門著書，「大気圧プラズマ 基礎と応用」 第6章6.7.3[2]　シリコン系CVD，安武　潔, 垣内弘章, 大参宏昌，オーム社，2009年10月

  8. 専門著書，Materials Science Research Trends，H. Kakiuchi, H. Ohmi, and K. Yasutake，Nova Science Publishers, New York，2008年10月

  9. 専門著書，フィルムベースエレクトロニクスの最新要素技術，垣内弘章, 大参宏昌, 安武　潔，シーエムシー出版，2008年10月

  10. 専門著書，「大気圧プラズマの生成制御と応用技術」　第2章 第7節 大気圧プラズマCVDによる無機物膜堆積 (2006) pp.135-151.，安武潔、垣内弘章、大参宏昌，サイエンス＆テクノロジー，2006年11月

< 前のページ - 次のページ >

  • 1
このページの先頭へ▲