基本情報

写真b

大参 宏昌

OHMI Hiromasa


キーワード

薄膜工学,材料科学,プラズマ科学

URL

http://www-ms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2001年09月01日 ~ 2007年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助手,専任

  • 2007年04月01日 ~ 2011年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助教,専任

  • 2011年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 附属超精密科学研究センター,助教,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 精密工学科 卒業 1995年03月
大阪大学 工学研究科 精密科学専攻 工学修士 1997年03月
大阪大学 工学研究科 精密科学専攻 工学博士 2001年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター,非常勤研究員 2001年04月 ~ 2001年08月

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • 大気圧水素プラズマを用いた新規プロセスの開発
    (大気圧プラズマ化学輸送法の研究過程から派生した省資源型薄膜製造プロセスの研究を行っています.)

  • 大気圧ミストプラズマ滅菌
    プラズマ科学関連,薄膜および表面界面物性関連

  • 大気圧プラズマ化学輸送法の開発
    (大気圧近傍で生成されるプラズマを利用して,CVDに用いられる原料ガスを用いることなく機能薄膜を形成するプロセスです.薄膜の用途は,太陽電池,TFTなどが主体です.)
    プラズマ科学関連,薄膜および表面界面物性関連

  • 高圧グロー放電を利用した機能薄膜形成プロセスの開発

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会

  • 精密工学会

  • 電気学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • atmospheric pressure plasma sterilization with water micro-mist,Yoshiki Ogiyama, Hiromasa Ohmi, Keiji Iwamoto, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake,Proceedings of 6th international symposium on dry process,175,2006年11月,国際会議(proceedingsあり)

  • Study of the interaction between molten indium and sub-atmospheric pressure hydrogen glow discharge for low-temperature nanostructured metallic particle film deposition,H. Ohmi, H. Kakiuchi and K. Yasutake,Journal of Alloys and Compounds,,728 1217-1225,2017年09月,学術論文

  • Atmospheric-Pressure Low-Temperature Plasma Processes,H. Kakiuchi, H. Ohmi, K. Yasutake,Encyclopedia of Plasma Technology,November 16, 2016 ,2016年11月,解説・総説

  • Copper dry etching by sub-atmospheric-pressure pure hydrogen glow plasma,Hiromasa Ohmi, Jumpei Sato, Tatsuya Hirano, Yusuke Kubota, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake,Applied Physics Letters,109 211603-1-211603-5,2016年11月,学術論文

  • Selective Boron Elimination from B2H6–SiH4 Gas Mixtures for Purifying Si,Hiromasa Ohmi, Daiki Kamada, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake,ECS J. Solid State Sci. Technol.,5,9, P471-P477,2016年07月,学術論文

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著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,超精密加工と表面科学 第2部2章3,大参宏昌,大阪大学出版会,ISBN,978-4-87259-465-2,2014年03月

  • その他,大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用 「月間ディスプレイ」,垣内弘章,大参宏昌,安武 潔,(株)テクノタイムズ社,2013年11月

  • 専門著書,大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著),垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔,株式会社オプトロニクス社,2012年06月

  • 専門著書,大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著),安武潔,垣内弘章,大参宏昌,サイエンス&テクノロジー株式会社,ISBN,978-4-86428-039-6,2012年03月

  • 専門著書,大気圧プラズマの技術とプロセス開発,垣内弘章,大参宏昌,安武潔,株式会社シーエムシー出版,ISBN,978-4-7813-0407-6,2011年08月

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,成膜方法および成膜装置,大参宏昌,2013-215103(出願),2013年10月

  • 日本,膜製造方法,大参宏昌,安武潔,他2名,特願2008-222785(出願),2008年08月

  • 日本,選択的膜製造方法,大参宏昌,安武潔,垣内弘章,WO2009/028188(公開),2008年08月

  • 日本,Si精製方法,Si精製装置及びSi精製膜製造装置,大参宏昌,安武潔,他2名,4660715(登録),2008年06月,2011年01月

  • 日本,選択的膜製造方法,大参宏昌,安武潔,垣内弘章,特願 2007-225020(出願),2007年08月

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受賞 【 表示 / 非表示

  • 精密工学会沼田記念論文賞,森 勇藏, 芳井熊安, 安武 潔, 垣内弘章, 大参宏昌, 和田勝男,社団法人精密工学会,2004年03月

報道 【 表示 / 非表示

  • プラズマ殺菌吹き付け式装置開発,日経産業新聞,2007年04月

研究シーズ 【 表示 / 非表示

  • PFC系ガスを用いないプラズマエッチング

 

講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • 大阪大学 新技術説明会,高密度・粘性流プラズマによる 機能ガス生成技術と成膜・エッチングへの応用,2014年07月

  • PV JAPAN 2014,大阪大学・安武研究室,2014年07月

  • PV JAPAN 2012,大阪大学・安武研究室,2012年12月

  • PV JAPAN 2011,大阪大学・安武研究室,2011年12月

  • イノベーション ジャパン 2010,(4) 高圧プラズマを用いた原料ガスフリーな成膜・エッチング技術,2010年09月

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