基本情報

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節原 裕一

SETSUHARA Yuichi


キーワード

表界面制御, 非平衡材料プロセス, プラズマ理工学, プラズマエレクトロニクス

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 1996年06月01日 ~ 2001年05月31日,接合科学研究所,助手,専任

  • 2004年07月01日 ~ 継続中,接合科学研究所,教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 電気工学科 卒業 1986年03月
大阪大学 工学研究科 電磁エネルギー工学専攻 修了 1988年03月
大阪大学 工学研究科 電気工学専攻 修了 工学博士(大阪大学) 1991年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学・溶接工学研究所・助手 1991年04月 ~ 1996年05月
大阪大学・接合科学研究所・助手 1996年05月 ~ 2001年05月
国際協力事業団 個別専門家委嘱 1997年02月
通産省工業技術院名古屋工業技術研究所 流動研究員併任 1997年04月 ~ 1999年03月
京都大学・大学院工学研究科航空宇宙工学専攻・助教授 2001年06月 ~ 2004年06月
大阪大学・接合科学研究所・教授 2004年07月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  •  材料加工プロセスにおける加工エネルギー源(プラズマ、粒子ビーム)と材料との相互作用機序ならびにエネルギー変換付与機構を基軸に据えて、材料表界面の高機能化と高度制御に向けた基礎学理を追求するとともに、先進的な加工エネルギー源ならびにプロセス制御法の創成と診断評価を通じて、接合科学の高度化に資する基礎研究ならびに応用技術開発を行っている。
     特に、独自のプラズマ生成制御技術を活用して、メートル級の超大面積プラズマ源の開発ならびに機能性材料の低温かつ低ダメージでの高品位プロセスの実現に資する先進的な表界面制御プロセスの研究開発を展開している。さらに、放電の高度時空間制御ならびに生体分子との相互作用の解明に基づく系統的研究により、生体適合性に優れた革新的医療用プラズマ源の開拓に向けた研究を展開している。
    応用物理一般関連,プラズマ科学関連,薄膜および表面界面物性関連

所属学会 【 表示 / 非表示

  • スマートプロセス学会

  • 溶接学会

  • 日本航空宇宙学会

  • 表面技術協会

  • 応用物理学会

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論文 【 表示 / 非表示

  • Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow,Toshiyuki Kawasaki, Keisuke Nishida, Giichiro Uchida, Fumiaki Mitsugi, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Yuichi Setsuhara and Masaharu Shiratani,Japanese Journal of Applied Physics,59, (2020) SHHF02/1-SHHF02/6.,2020年03月,学術論文

  • High rate formation of silicon nitride thin films using plasma-assisted reactive sputtering deposition,Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Jeon Geon Han, Giichiro Uchida and Akinori Ebe,Thin Solid Films,685, (2019) 306-311.,2019年09月,学術論文

  • Droplet-Vaporization Behavior during Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition of Zinc Oxide Films,Kosuke Takenaka and Yuichi Setsuhara,Plasma Sources Science & Technology,28, (2019) 065015/1-065015/8.,2019年06月,学術論文

  • Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes,Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Hiroyuki Hirayama, Giichiro Uchida Akinori Ebe and Yuichi Setsuhara,Japanese Journal of Applied Physics,58, (2019) 090605/1-090605/5.,2019年06月,学術論文

  • 大気非平衡プラズマによる水中活性種の生成・制御,節原 裕一,内田 儀一郎,竹中 弘祐,金属,89, 6 (2019) ,2019年05月,解説・総説

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著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,Novel Structured Metallic and Inorganic Materials,Yuichi Setsuhara, Toshio Kamiya, Shin-ichi Yamaura,Springer,ISBN,978-981-13-7610-8,2019年07月

  • 教科書,Plasma Medical Science,Yuichi Setsuhara, Giichiro Uchida, Kosuke Takenaka,Elsevier,ISBN, 9780128150047,2018年07月

  • 専門著書,Comprehensive Materials Processing,Yuichi Setsuhara,Elsevier,ISBN,978-0080965321,2014年06月

  • 専門著書,Справочник по технологии наночастиц ( Nanoparticle Technology Handbook ),Yuichi Setsuhara,Научный мир ( Scientific World Publishing House ),ISBN,978-5-91522-231-0,2013年05月

  • 専門著書,Progress in Advanced Structural and Functional Materials Design,Yuichi Setsuhara,Springer,ISBN,978-4-431-54063-2,2013年01月

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  •  ,高頻電力供給装置及電奬産生装置,節原裕一、庄司多津男、釜井正善,中華民国特許: I266361号(登録),2006年11月

  • アメリカ,Plasma generator,S. Miyake, T. Shoji, Y. Setsuhara,United States Patent 7,098,599(登録),2006年08月

  • 日本,プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置,節原 裕一,他5名,特開2007-149639(公開),2006年06月

  • 日本,プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置,節原 裕一,他3名,特開2007-123008(公開),2005年10月

  • 日本,プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置,節原 裕一,他4名,特開2007-220600(公開),2005年10月

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受賞 【 表示 / 非表示

  • ICMaSS2019/ iLIM-s Outstanding Presentation Award,Hiroyuki Hirayama, Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara,ICMaSS2019,2019年11月

  • フロンティア材料研究所学術賞,節原 裕一,フロンティア材料研究所,2018年09月

  • Best presentation award,Giichiro Uchida, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Junichiro Ikeda and Yuichi Setsuhara,ISPlasma2017/IC-PLANTS2017,2017年03月

  • Participants' Poster Prize,G. Uchida, A. Nakajima, T. Ito, K. Takenaka, T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara,6th International Conference on Plasma Medicine,2016年09月

  • 2015年応用物理学会秋季学術講演会 Poster Award,竹中 弘祐,内田 儀一郎,節原 裕一,応用物理学会,2015年09月

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講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • 7th Global Nanotechnology Congress and Expo,Low-temperature Formation of High-Mobility In GaZnOx Thin-Film Transistors by Plasma-Enhanced Reactive Processes,2019年12月

  • 21st International Conference on Advanced Energy Materials and Research,Reactive plasma processes for formation of high-mobility IGZO thin-film transistors,2019年07月

  • The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2019),Low-temperature formation of high-mobility InGaZnOx thin film transistor by ICP-enhanced reactive plasma processes Yuichi Setsuhara,2019年06月

  • The 5th Asian Workshop on Applied Plasma Science and Engineering 2019 (APSE2019),ICP-Enhanced Reactive Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility Oxide Semiconductor TFT,2019年01月

  • 2018年度フロンティア材料研究所学術賞受賞記念講演会・若手教員講演会,低ダメージ大面積プロセス対応プラズマ生成・制御技術の開発,2018年09月

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会議運営 【 表示 / 非表示

  • 国際会議,The 38th International Symposium on Dry Process (DPS2016),Program Committee,2017年11月

  • 国際会議,IUMRS-ICAM 2017,Program committee, Chair,2017年08月

  • 国際会議,The 11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2017),International Program Committee,2017年03月

  • 国際会議,9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2017/IC-PLANTS2017),Program Committee,2017年03月

  • 国際会議,9th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/10th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2017/IC-PLANTS2017),Organizing Committee,2017年03月

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学外運営 【 表示 / 非表示

  • 学会,応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会 幹事,幹事,2001年04月 ~ 2003年03月

  • 学会,応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会,幹事,1997年04月 ~ 1999年03月