基本情報

写真b

酒井 朗

SAKAI Akira


キーワード

半導体物性工学,結晶工学,格子欠陥,電子顕微鏡

URL

http://www.nano.ee.es.osaka-u.ac.jp/

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2007年04月01日 ~ 継続中,基礎工学研究科 システム創成専攻,教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

名古屋大学 工学部  卒業 工学士 1984年03月
名古屋大学 工学研究科  修了 工学修士 1986年03月
名古屋大学 工学研究科  博士(工学) 1996年07月

職歴 【 表示 / 非表示

日本電気株式会社・基礎研究所・半導体研究部 1986年04月 ~ 1998年06月
日本電気株式会社・基礎研究所・主任研究員 1998年07月 ~ 1999年03月
名古屋大学・大学院工学研究科・助教授 1999年04月 ~ 2007年03月
大阪大学・大学院基礎工学研究科・教授 2007年04月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • 半導体物性工学、格子欠陥エンジニアリング、電子顕微鏡、X線回折構造解析
    応用物性関連,薄膜および表面界面物性関連,電気電子材料工学関連

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会

  • Electrochemical Society

  • Materials Research Society

  • 日本顕微鏡学会

  • 日本結晶成長学会

全件表示 >>

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Gate tuning of synaptic functions based on oxygen vacancy distribution control in four-terminal TiO2−x memristive devices,Zenya Nagata, Takuma Shimizu, Tsuyoshi Isaka, Tetsuya Tohei, Nobuyuki Ikarashi, Akira Sakai,Scientific Reports,9 10013-1-10013-7,2019年07月,解説・総説

  • Quantitative analysis of lattice plane microstructure in the growth direction of a modified Na-flux GaN crystal using nanobeam X-ray diffraction,Kazuki Shida, Nozomi Yamamoto, Tetsuya Tohei, Masayuki Imanishi, Yusuke Mori, Kazushi Sumitani, Yasuhiko Imai, Shigeru Kimura, Akira Sakai,Japanese Journal of Applied Physics,58 SCCB16-1-SCCB16-6,2019年05月,学術論文

  • Correlation between current leakage and structural properties of threading dislocations in GaN bulk single crystals grown using a Na-flux method ,Takeaki Hamachi, Tetsuya Tohei, Masayuki Imanishi, Yusuke Mori, Akira Sakai,Japanese Journal of Applied Physics,58 SCCB23-1-SCCB23-6,2019年05月,学術論文

  • Local current leakage at threading dislocations in GaN bulk single crystals grown by a modified Na-flux method ,Takeaki Hamachi, Tetsuya Tohei, Masayuki Imanishi, Yusuke Mori, Akira Sakai,Japanese Journal of Applied Physics,58 050918-1-050918-4,2019年04月,学術論文

  • Demonstrative operation of four-terminal memristive devices fabricated on reduced TiO2 single crystals,Shotaro Takeuchi, Takuma Shimizu, Tsuyoshi Isaka, Tetsuya Tohei, Nobuyuki Ikarashi, Akira Sakai,Scientific Reports,9 2601-1-2601-9,2019年02月,学術論文

全件表示 >>

著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,シリコン結晶技術 Silicon Crystal Technology -成長・加工・欠陥制御・評価ー,酒井 朗,日本学術振興会第145委員会,2015年01月

  • 専門著書,ポストシリコン半導体 -ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果- 第2編第3章第2節 ウエハボンディングによるGe-On-Insulator基板の開発と界面制御,酒井 朗,株式会社エヌ・ティー・エス,ISBN,978-4-86469-059-1,2013年06月

  • 専門著書,現代表面科学シリーズ4 表面新物質創製,酒井朗,共立出版,2011年09月

  • 教科書,薄膜工学,酒井朗,丸善出版,2011年06月

  • 専門著書,Silicon-germanium (SiGe) nanostructures Production, properties and applicaitons in electronics; Chapter 5 Silicon-germanium (SiGe) crustal growth using molecular beam epitaxy,A. Sakai,Woodhead Publishing Limited,2011年03月

全件表示 >>

特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,III族窒化物結晶の製造方法、III族窒化物結晶および半導体装置,竹内正太郎、酒井朗、浅津宏伝、森勇介、今出完、吉村政志、平尾美帆子、今西正幸,特願2015-029101(出願),2015年02月

  • 日本,III族窒化物結晶の製造方法、III族窒化物結晶および半導体装置,竹内正太郎,酒井朗,浅津宏伝,森勇介,今出完,吉村政志,平尾美帆子,今西正幸,2016-150871(公開),2015年02月

  • 日本,シリコンウェーハ及びその製造方法,須藤治生,荒木浩司,泉妻宏治,竹内正太郎,中村芳明,酒井朗,2016-124758(公開),2015年01月

  • 日本,歪緩和ゲルマニウム膜及びその製造方法並びに多層膜構造体,酒井朗, 湯川勝規, 中塚理, 小川正毅, 財満鎭明,特願2005-355102(出願),2005年12月

  • 日本,カーボンナノチューブ形成用基材及びその製造方法並びにカーボンナノチューブ,酒井朗, 中塚理, 財満鎭明, 種田智, 小川正毅,特願2005-199338(出願),2005年07月

全件表示 >>

受賞 【 表示 / 非表示

  • 第5回Japanese Journal of Applied Physics編集貢献賞,酒井朗,社団法人 応用物理学会,2007年04月

  • The 3rd P&I Patent Contest Patent of the Year 2006 Process Technology Division,財満鎭明, 安田幸夫, 酒井朗, 中塚理, 土屋義規,東京工業大学精密工学研究所,2006年11月

  • MNC (Microprocesses and Nanotechnology Conference) 2004 Award for Outstanding Paper,S. Naito, T. Ueyama, H. Kondo, M. Sakashita, A. Sakai, M. Ogawa, S. Zaima,Microprocesses and Nanotechnology Conference,2005年10月

  • 第49回(平成14年度)大河内賞記念賞,辰巳徹,渡辺啓仁,酒井朗,岡村健司,三宅秀治,財団法人大河内記念会,2003年03月

  • 第21回応用物理学会賞(1999年度)学会賞A(論文賞),碓井彰,砂川晴夫,酒井朗,山口敦史,応用物理学会,1999年09月

全件表示 >>

報道 【 表示 / 非表示

  • 「名大が新プロセス・材料開発」次世代MOSFET,日刊工業新聞,2002年10月

 

会議運営 【 表示 / 非表示

  • 国際会議,The IUMRS International Conference in Asia 2008, (IUMRS-ICA 2008),Proguram Committee, Member,2008年12月

  • 国際会議,2006 International Conference on Solid State Devices and Materials,Program Committee, Secretary,2007年09月

  • 国際会議,Fifth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-5),Scientific Program Committee, Member,2007年05月

  • 国際会議,2006 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices: Science and Technology,,Steering Committee, Member,2006年11月

  • 国際会議,2006 International Conference on Solid State Devices and Materials,Program Committee, Subcommittee Member,2006年09月

全件表示 >>

学外運営 【 表示 / 非表示

  • 公益法人,社団法人 電子情報技術産業協会 半導体技術ロードマップ専門委員会,特別委員,2006年05月 ~ 継続中

  • 学会,日本学術振興会第145委員会「結晶加工と評価技術」,幹事,2005年04月 ~ 継続中

  • 学会,応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会,幹事,2003年04月 ~ 継続中

  • 学会,応用物理学会,学会誌「JSAP International」小委員会委員,2003年04月 ~ 2005年03月

  • 学会,日本結晶成長学会,学会誌編集委員,2002年12月 ~ 継続中

全件表示 >>