基本情報

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佐野 泰久

SANO Yasuhisa


キーワード

超精密加工,物理化学加工

メールアドレス

メールアドレス

電話番号

06-6879-7284

FAX番号

06-6879-7284

URL

http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 1998年04月01日 ~ 2003年12月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助手,専任

  • 2004年01月01日 ~ 2007年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助教授,専任

  • 2007年04月01日 ~ 2020年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,准教授,専任

  • 2020年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 物理学系専攻,准教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 精密工学科 卒業 1991年03月
大阪大学 工学研究科 精密工学専攻 修了 1993年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学・助手 1993年04月 ~ 2003年12月
大阪大学・助教授 2003年12月 ~ 2007年03月
大阪大学・准教授 2007年04月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • プラズマCVMによる超精密加工

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会

  • 精密工学会

  • 精密工学会 超精密加工専門委員会

  • 精密工学会 プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会

  • 応用物理学会 先進パワー半導体分科会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • An abrasive-free chemical polishing method assisted by nickel catalyst generated by in situ electrochemical plating,D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, S. Matsuyama, K. Yamauchi, and Y. Sano,Review of Scientific Instruments, 91 (4), 045108,2020年04月,https://doi.org/10.1063/1.5141381,学術論文

  • A micro channel-cut crystal X-ray monochromator for a self-seeded hard X-ray free-electron laser,T. Osaka, I. Inoue, R. Kinjo, T. Hirano, Y. Morioka, Y. Sano, K. Yamauchi, and M. Yabashi,Journal of Synchrotron Radiation,26 (5), 1496-1502,2019年09月,学術論文

  • Improvements in graphene growth on 4H-SiC(0001) using plasma induced surface oxidation,Ouki Minami, Ryota Ito, Kohei Hosoo, Makoto Ochi, Yasuhisa Sano, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, and Kenta Arima,Journal of Applied Physics,vol. 126, no. 6, pp. 065301 1-10,2019年08月,学術論文

  • Catalyzed chemical polishing of SiO2 glasses in pure water,D. Toh, P. V. Bui, A. Isohashi, N. Kidani, S. Matsuyama, Y. Sano, Y. Morikawa, and K. Yamauchi,Review of Scientific Instruments,Volume 90, Issue 4, p. 045115,2019年04月,学術論文

  • Surface Finishing Method using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-ray Crystal Monochromators,T. Hirano, Y. Morioka, S. Matsumura, Y. Sano, T. Osaka, S. Matsuyama, M. Yabashi, and K. Yamauchi,Int. J. Automation Technol.,Vol. 13, No. 2, pp. 246-253,2019年03月,学術論文

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著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,Chapter 41. Plasma-Based Nanomanufacturing Under Atmospheric Pressure, Handbook of Manufacturing Engineering and Technology,K. Yamamura, Y. Sano,Springer,ISBN,978-1-4471-4669-8,2014年10月

  • 専門著書,超精密加工と表面科学-原子レベルの生産技術- 第3部第2章2 半導体ウエハの超精密加工,佐野泰久,大阪大学出版,ISBN,978-4-87259-465-2,2014年03月

  • 専門著書,SiCパワーデバイスの開発と最新動向、第7章第5節SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術,佐野泰久, 有馬健太, 山内和人,S&T出版,ISBN,978-4-907002-06-0,2012年10月

  • 専門著書,大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版第6章第3節 プラズマCVMによる超精密形状創成とプラズマ援用研磨による表面仕上げ,山村和也, 佐野泰久, 森 勇藏,サイエンス&テクノロジー,ISBN,978-4-86428-039-6,2012年03月

  • 専門著書,半導体SiC技術と応用 第2版「4.3.1 CARE法」,松波弘之,大谷昇,木本恒暢,中村孝,他,日刊工業新聞社,ISBN,ISBN978-4-526-06754-9,2011年09月

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,プラズマ処理装置,佐野泰久,5013332(登録),2007年08月,2012年06月

  • 日本,半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置,佐野泰久, 山村和也, 原英之, 加藤武寛,特許第4962960号(登録),2007年08月,2012年04月

  • 日本,精密加工方法及び精密加工装置,佐野泰久,4644858(登録),2006年07月,2010年12月

  • 日本,誘電体基板のパターン転写加工方法,森勇藏、山村和也、佐野泰久,特許第4665503号(登録),2004年12月,2011年01月

受賞 【 表示 / 非表示

  • ベストポスタープレゼンテーション賞,南映希,伊藤亮太,細尾幸平,佐野泰久,川合健太郎,有馬健太,2018年度 精密工学会 関西地方定期学術講演会,2018年06月

  • ベストポスタープレゼンテーション賞,伊藤亮太, 細尾幸平, 南映希, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太,2017年度精密工学会秋季大会,2017年09月

  • 安田賞,中出和希, 森大地, 川瀬達也, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂, 有馬健太,応用物理学会 第21回 電子デバイス界面テクノロジー研究会,2016年01月

  • 日本表面科学会 会誌賞,山内和人,佐野泰久,有馬健太,公益社団法人 日本表面科学会,2013年11月

  • JSPE Prize Best Paper Award,Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura and Kazuto Yamauchi,3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (Japan Society for Precision Engineering),2009年11月

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研究シーズ 【 表示 / 非表示

  • 多電極型数値制御プラズマ処理装置

 

講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • セミコンジャパン2012,大阪大学 山内・佐野研究室,2012年12月

  • セミコンジャパン2011,大阪大学 山内・佐野研究室,2011年12月

  • セミコンジャパン2010,大阪大学 山内・佐野研究室,2010年12月

  • セミコンジャパン2009,大阪大学 山内・佐野研究室,2009年12月

  • イノベーションジャパン2009,大気圧プラズマによる局所酸化を用いた超精密加工法,2009年09月

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会議運営 【 表示 / 非表示

  • 国際会議,シリコンカーバイド及び関連材料に関する国際会議2019 (ICSCRM 2019),副実行委員長,2019年09月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2019,プログラム委員,2019年09月

  • 国内重要会議,応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第5回講演会,実行委員,2018年11月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2018,プログラム委員,2018年10月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2017,プログラム委員,2017年10月

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学外運営 【 表示 / 非表示

  • 学会,精密工学会,関西支部 庶務幹事,2018年04月 ~ 継続中

  • 学会,応用物理学会 先進パワー半導体分科会,幹事,2017年04月 ~ 継続中

  • 学会,精密工学会 プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会,幹事,2013年02月 ~ 継続中

  • 学会,精密工学会,関西支部幹事,2011年04月 ~ 継続中

  • 学会,精密工学会,関西支部商議員,2009年04月 ~ 継続中