基本情報

写真b

佐野 泰久

SANO Yasuhisa


キーワード

超精密加工,物理化学加工

メールアドレス

メールアドレス

電話番号

06-6879-7284

FAX番号

06-6879-7284

URL

http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 1998年04月01日 ~ 2003年12月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助手,専任

  • 2004年01月01日 ~ 2007年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助教授,専任

  • 2007年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,准教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 精密工学科 卒業 1991年03月
大阪大学 工学研究科 精密工学専攻 修了 1993年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学・助手 1993年04月 ~ 2003年12月
大阪大学・助教授 2003年12月 ~ 2007年03月
大阪大学・准教授 2007年04月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • プラズマCVMによる超精密加工

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会

  • 精密工学会

  • 精密工学会 超精密加工専門委員会

  • 精密工学会 プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会

  • 応用物理学会 先進パワー半導体分科会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Dynamic fracture of tantalum under extreme tensile stress,B. Albertazzi, N. Ozaki, V. Zhakhovsky, A. Faenov, H. Habara, M. Harmand, N. Hartley, D. Ilnitsky, N. Inogamov, Y. Inubushi, T. Ishikawa, T. Katayama, T. Koyama, M. Koenig, A. Krygier, T. Matsuoka, S. Matsuyama, E. McBride, K. P. Migdal, G. Morard, H. Ohashim T. Okuchi, T. Pikuz, N. Purejav, O. Sakata, Y. Sano, T. Sato, T. Sekine, Y. Seto, K. Takahashi, K. Tanaka, Y. Tange, T. Togashi, K. Tono, Y. Umeda, T. Vinci, M. Yabashi, T. Yabuuchi, K. Yamauchi, H. Yumoto, and R. Kodama,Science Advances,3 (6), e1602705 ,2017年06月,学術論文

  • Chemical etching of silicon carbide in pure water by using platinum catalyst,A. Isohashi, P. V. Pho, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Inagaki, Y. Morikawa, and K. Yamauchi,Applied Phsyics Letters, Volume 110, Issue 20, p. 201601,2017年05月,http://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.4983206,学術論文

  • Ultrafast observation of lattice dynamics in laser-irradiated gold foils,N. J. Hartley, N. Ozaki, T. Matsuoka, B. Albertazzi, A. Faenov, Y. Fujimoto, H. Habara. M. Harmand, Y. Inubushi, T. Katayama, M. Koenig, A. Krygier, P. Mabey, Y. Matsumura, S. Matsuyama, E. E. McBride, K. Miyanishi, G. Morard, T. Okuchi, T. Pikuz, O. Sakata, Y. Sano, T. Sato, T. Sekine, Y. Seto, K. Takahashi, K. A. Tanaka, Y. Tange, T. Togashi, Y. Umeda, T. Vinci, M. Yabashi, T. Yabuuchi, K. Yamauchi, and R. Kodama,Applied Physics Letters,110 (7), 071905,2017年02月,学術論文

  • Simulation of concave-convex imaging mirror system for development of a compact and achromatic full-field x-ray microscope,J. Yamada, S. Matsuyama, Y. Sano, and K. Yamauchi,Applied Optics,56 (4), 967-974,2017年02月,学術論文

  • 室温近傍でのプラズマ酸化とウェットエッチングによるSiC表面上へのC堆積物の生成,伊藤亮太、細尾幸平、川合健太郎、佐野泰久、森田瑞穂、有馬健太,Extended Abstracts of the 22st Workshop on Symposium on Electron Device Interface Technology,pp.203-206,2017年01月,会議報告/口頭発表

全件表示 >>

著書 【 表示 / 非表示

  • 専門著書,Chapter 41. Plasma-Based Nanomanufacturing Under Atmospheric Pressure, Handbook of Manufacturing Engineering and Technology,K. Yamamura, Y. Sano,Springer,ISBN,978-1-4471-4669-8,2014年10月

  • 専門著書,超精密加工と表面科学-原子レベルの生産技術- 第3部第2章2 半導体ウエハの超精密加工,佐野泰久,大阪大学出版,ISBN,978-4-87259-465-2,2014年03月

  • 専門著書,SiCパワーデバイスの開発と最新動向 第7章第5節SiC 基板表面の原子レベル平坦化技術,佐野泰久, 有馬健太, 山内和人,S&T出版,ISBN,978-4-907002-06-0,2012年10月

  • 専門著書,大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版第6章第3節 プラズマCVMによる超精密形状創成とプラズマ援用研磨による表面仕上げ,山村和也, 佐野泰久, 森 勇藏,サイエンス&テクノロジー,ISBN,978-4-86428-039-6,2012年03月

  • 専門著書,半導体SiC技術と応用 第2版「4.3.1 CARE法」,松波弘之,大谷昇,木本恒暢,中村孝,他,日刊工業新聞社,ISBN,ISBN978-4-526-06754-9,2011年09月

全件表示 >>

特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,プラズマ処理装置,佐野泰久,5013332(登録),2007年08月,2012年06月

  • 日本,半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置,佐野泰久, 山村和也, 原英之, 加藤武寛,特許第4962960号(登録),2007年08月,2012年04月

  • 日本,精密加工方法及び精密加工装置,佐野泰久,4644858(登録),2006年07月,2010年12月

  • 日本,誘電体基板のパターン転写加工方法,森勇藏、山村和也、佐野泰久,特許第4665503号(登録),2004年12月,2011年01月

受賞 【 表示 / 非表示

  • 日本表面科学会 会誌賞,山内和人,佐野泰久,有馬健太,公益社団法人 日本表面科学会,2013年11月

  • JSPE Prize Best Paper Award,Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura and Kazuto Yamauchi,3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (Japan Society for Precision Engineering),2009年11月

  • Best Paper Award 2006,Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori,The 8th International Conference on Progress of Machining Technology,2006年11月

  • 第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム学生会員発表賞,松山智至,三村秀和,湯本博勝,原英之,山村和也,佐野泰久,遠藤勝義,森勇藏,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人,日本放射光学会,2006年02月

  • 奨励研究賞,原英之、佐野泰久、三村秀和、山内和人,応用物理学会、SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会,2005年11月

全件表示 >>

研究シーズ 【 表示 / 非表示

  • 多電極型数値制御プラズマ処理装置

 

講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • セミコンジャパン2012,大阪大学 山内・佐野研究室,2012年12月

  • セミコンジャパン2011,大阪大学 山内・佐野研究室,2011年12月

  • セミコンジャパン2010,大阪大学 山内・佐野研究室,2010年12月

  • セミコンジャパン2009,大阪大学 山内・佐野研究室,2009年12月

  • イノベーションジャパン2009,大気圧プラズマによる局所酸化を用いた超精密加工法,2009年09月

全件表示 >>

会議運営 【 表示 / 非表示

  • 国際会議,第7回シリコン材料の先端科学と技術国際シンポジウム,プログラム委員,2016年11月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2016,プログラム委員,2016年11月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2015,プログラム委員,2015年11月

  • 国内重要会議,応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第2回講演会,実行委員,2015年11月

  • 国際会議,プラナリゼーションCMP国際会議2014,現地実行委員,2014年11月

全件表示 >>

学外運営 【 表示 / 非表示

  • 学会,精密工学会 プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会,幹事,2013年02月 ~ 継続中

  • 学会,精密工学会,関西支部幹事,2011年04月 ~ 継続中

  • 学会,精密工学会,関西支部商議員,2009年04月 ~ 継続中