基本情報

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垣内 弘章

KAKIUCHI Hiroaki


キーワード

薄膜工学,大気圧プラズマプロセス

URL

http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2001年08月01日 ~ 2007年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,助教授,専任

  • 2007年04月01日 ~ 2020年03月31日,工学研究科 精密科学・応用物理学専攻,准教授,専任

  • 2020年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 物理学系専攻,准教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 精密工学科 卒業 1989年03月
大阪大学 工学研究科 精密工学専攻 修了 1991年03月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学工学部助手 1991年04月 ~ 継続中
大阪大学大学院工学研究科助手 1998年04月 ~ 継続中
大阪大学大学院工学研究科助教授 2001年08月 ~ 継続中

所属学会 【 表示 / 非表示

  • 精密工学会

  • 応用物理学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Atmospheric-Pressure Low-Temperature Plasma Processes,H. Kakiuchi, H. Ohmi, K. Yasutake,Encyclopedia of Plasma Technology,November 16, 2016 ,2016年11月,解説・総説

  • Characterization of Si and SiOx films deposited in very high-frequency excited atmospheric-pressure plasma and their application to bottom-gate thin film transistors,H. Kakiuchi, H. Ohmi, T. Yamada, S. Tamaki, T. Sakaguchi, W. Lin, K. Yasutake,Phys. Status Solidi A,DOI 10.1002/pssa.201532328,2015年05月,学術論文

  • Atmospheric-pressure low-temperature plasma processes for thin film deposition,H. Kakiuchi, H. Ohmi, and K. Yasutake,J. Vac. Sci. Technol. A,Vol. 32, No. 3, 030801-1-16,2014年05月,学術論文

  • Silicon Oxide Coatings with Very High Rates (>10 nm/s) by Hexamethildisiloxane-Oxygen Fed Atmospheric-Pressure VHF Plasma: Film-Forming Behavior Using Cylindrical Rotary Electrode,H. Kakiuchi, H. Ohmi, T. Yamada, K. Yokoyama, K. Okamura, and K. Yasutake,Plasma Chem. Plasma Process.,32, pp. 533–545,2012年07月,学術論文

  • High-Rate HMDSO-Based Coatings in Open Air Using Atmospheric-Pressure Plasma Jet,H. Kakiuchi, K. Higashida, T. Shibata, H. Ohmi, T. Yamada, and K. Yasutake,Journal of Non-Crystalline Solids,358, 2462-2465,2012年01月,学術論文

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著書 【 表示 / 非表示

  • その他,大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用 「月間ディスプレイ」,垣内弘章,大参宏昌,安武 潔,(株)テクノタイムズ社,2013年11月

  • 専門著書,大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著),安武潔,垣内弘章,大参宏昌,サイエンス&テクノロジー株式会社,ISBN,978-4-86428-039-6,2012年03月

  • 専門著書,大気圧プラズマの技術とプロセス開発,垣内弘章,大参宏昌,安武潔,株式会社シーエムシー出版,ISBN,978-4-7813-0407-6,2011年08月

  • 専門著書,大気圧プラズマを用いた低温・高速成膜技術, ケミカルエンジニヤリング 55[12], pp. 1–7 (2010).,垣内弘章, 大参宏昌, 安武 潔,化学工業社,2010年12月

  • 専門著書,Materials Science Research Trends,H. Kakiuchi, H. Ohmi, and K. Yasutake,Nova Science Publishers, New York,2008年10月

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,低屈折率SiO2反射防止膜の製造方法及びそれを用いて得られる反射防止処理基材,垣内弘章,安武 潔,大参宏昌,石岡宗悟,畠山宏毅,特願2008-155333(出願),2008年06月

  • 日本,透明導電膜の成膜装置および形成方法,垣内弘章,安武 潔,岡崎真也,長谷川千尋,特願2010-209158(出願),2010年09月

  • 日本,Si基板表面の炭化による結晶性SiCの形成方法及び結晶性SiC基板,垣内弘章, 安武 潔, 大参宏昌,PCT/JP2006/322656(登録),2006年11月

  • 日本,Si基板表面の炭化による結晶性SiCの形成方法及び結晶性SiC基板,垣内弘章,大参宏昌,安武 潔,特願2005-329318(登録),2005年11月

  • 日本,成膜装置,柴田哲司,平井孝彦,垣内弘章,安武潔,特願2010-070769(出願),2010年03月

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受賞 【 表示 / 非表示

  • 精密工学会沼田記念論文賞,森 勇藏, 芳井熊安, 安武 潔, 垣内弘章, 大参宏昌, 和田勝男,社団法人精密工学会,2004年03月

  • Poster award of excellence,H.Takemoto, Y. Ishikawa, H. Kakiuchi, K. Yasutake, H. Ohmi,Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology,2015年11月

  • 2003年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞「機能性薄膜」,安武潔,垣内弘章,精密工学会,2003年10月

  • 精密工学会関西支部講演論文賞,垣内 弘章,精密工学会,1992年08月

研究シーズ 【 表示 / 非表示

  • PFC系ガスを用いないプラズマエッチング

 

講演会・展示会 【 表示 / 非表示

  • 第25回プラズマエレクトロニクス講習会 ~プラズマプロセスの基礎とその応用・制御技術~,大気圧プラズマ技術と成膜応用,2014年11月

  • 第21回プラズマエレクトロニクス講習会 「プラズマプロセスの基礎から応用最前線」,大気圧プラズマCVDによる低温・高速成膜,2010年10月

  • 第4回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール,プラズマCVDの基礎~大気圧プラズマによる薄膜形成~,2010年09月

  • 新機能性材料展2009薄膜コーティングセッション「ドライおよびウェットコートによる機能薄膜形成」,大気圧プラズマを用いた薄膜形成技術,2009年02月

  • セミナー,低温・高速成膜のための大気圧・超高周波プラズマ技術,2008年04月

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会議運営 【 表示 / 非表示

  • 国際会議,グローバルCOE「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」 第5回国際シンポジウム,プログラム委員,2012年10月

  • 国際会議,グローバルCOE「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」 第4回国際シンポジウム,プログラム委員,2011年10月

  • 国際会議,グローバルCOE「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」 第3回国際シンポジウム,プログラム委員,2010年11月

  • 国際会議,グローバルCOE「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」 第2回国際シンポジウム,プログラム委員,2009年11月

  • 国際会議,グローバルCOE「高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点」 第1回国際シンポジウム,プログラム委員,2009年02月

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その他の活動 【 表示 / 非表示

  • NEDO技術委員,2009年11月 ~ 2011年03月