基本情報

写真b

三科 健

Mishina Ken


生年月

1982年09月

キーワード

光通信工学

メールアドレス

メールアドレス

電話番号

06-6879-7696

FAX番号

06-6879-7688

URL

http://wwwpn.comm.eng.osaka-u.ac.jp/index.html

性別

男性

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2018年02月01日 ~ 継続中,工学研究科 電気電子情報工学専攻,准教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

大阪大学 工学部 電子情報エネルギー工学科 卒業 学士 2005年03月
大阪大学 工学研究科 電気電子情報工学専攻 修了 修士 2007年03月
大阪大学 工学研究科 電気電子情報工学専攻 修了 博士(工学) 2012年09月

職歴 【 表示 / 非表示

株式会社島津製作所 2007年04月 ~ 2018年01月
大阪大学 大学院工学研究科・准教授 2018年02月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • 全光信号処理に関する研究
    通信工学関連

  • 結晶シリコン太陽電池向け窒化シリコン膜に関する研究
    電子デバイスおよび電子機器関連

  • 光ファイバ伝送における信号歪み補償に関する研究
    通信工学関連

所属学会 【 表示 / 非表示

  • IEEE(米国電気電子工学会)

  • 電子情報通信学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • A novel electromagnetic wave transmission metal coating "ELTRA" using wet and dry process,K. Mishina, N. Takahashi, N. Yoshioka, H. Ueyama, K. Kitamura, Y. Ono, and M. Watanabe,11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2017),Paper T3-IV02,2017年09月,国際会議(proceedingsあり)

  • 島津製作所の高密度プラズマ源開発,三科健, 上野智子,日本学術振興会 プラズマ材料科学 第153委員会, 第126回研究会,2016年05月,会議報告/口頭発表

  • ARCの改質によるPID耐性向上,三科健,日本学術振興会 次世代の太陽抗発電システム 第175委員会, 第2回 モジュール・システム研究会/第3回次世代シリコン太陽電池研究会合同研究会,2015年07月,会議報告/口頭発表

  • Plasma-enhanced chemical-vapor deposition of silicon nitride film for high resistance to potential-induced degradation,K. Mishina, A. Ogishi, K. Ueno, Sachiko Jonai, N. Ikeno, T. Saruwatari, K. Hara, A. Ogura, T. Yamazaki, T. Doi, Makoto Shinohara, and A. Masuda,JSAP Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 54, pp. 08KD12-1 – 6,2015年07月,学術論文

  • PLASMA ENHANCED CHMICAL VAPOR EPOSITION OF HIGH-PID RESISTASNCE SILICON NITRIDE FILM FOR CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS,K. Mishina, A. Ogishi, K. Ueno, S. Jonai, N. Ikeno, T. Saruwatari, K. Hara, A. Ogura, T. Yamazaki, T. Doi, and A. Masuda,Technical Digest of 6th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion (WCPEC-6),Paper 4WeO.18.4, pp.533-534,2014年11月,国際会議(proceedingsあり)

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,半導体装置及びその製造方法,大岸厚文, 三科健, 猿渡哲也,特開2017-50520(公開),2015年08月

  • 日本,プロセス処理装置,三科健, 猿渡哲也,特許第6327189号(登録),2015年04月,2018年04月

  • 日本,プラズマ処理装置,三科健, 猿渡哲也, 大岸厚文,特開2016-197528(公開),2015年04月

  • 日本,薄膜及びその形成方法,三科健, 猿渡哲也, 大岸厚文,特開2016-197651(公開),2015年04月

  • 日本,基板支持具,大岸厚文, 猿渡哲也, 三科健, 武田直也,,特開2016-154180(公開),2015年02月

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