基本情報

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伊藤 智子

Ito Tomoko


キーワード

プラズマプロセス

メールアドレス

メールアドレス

電話番号

06-6879-7915

FAX番号

06-6879-7916

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 2014年04月01日 ~ 2016年03月31日,工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,特任研究員,専任

  • 2016年04月01日 ~ 2020年03月31日,工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,特任研究員(常勤),専任

  • 2020年04月01日 ~ 継続中,工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,助教,専任

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • プラズマ表面化学, アトミックレイヤープロセス, プラズマ医療応用
    プラズマ応用科学関連

所属学会 【 表示 / 非表示

  • American Vacuum Society

  • プラズマエレクトロニクス分科会(応用物理学会 )

  • 応用物理学会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Analyses of Hexafluoroacetylacetone (Hfac) Adsorbed on Transition Metal Surfaces,Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi,6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019) ,2019年07月,国際会議(proceedingsなし)

  • 原子層エッチングプロセスにおける表面反応解析,伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志,The 4th Atomic Layer Process (ALP) Workshop,2019年06月,会議報告/口頭発表

  • ヘキサフルオロアセチルアセトンによる遷移金属(Ni, Co)におけるサーマルエッチング反応解析,伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志,第66回応用物理学会春季学術講演会,2019年03月,会議報告/口頭発表

  • Etching reactions by polyatomic molecular ions containing fluorine atoms,Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Takuya Hirohashi, Junichi Hashimoto, Mitsuhiro Omura, Hisataka Hayashi, and Satoshi Hamaguchi,40th International Symposium on Dry Process,2018年11月,国際会議(proceedingsあり)

  • フルオロカーボン(Cx Fy+)イオンによるSiO2およびSiエッチング反応,唐橋一浩, 李虎, 伊藤智子, 浜口智志,第65回応用物理学会春季学術講演会,2018年03月,会議報告/口頭発表

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特許・実用新案・意匠 【 表示 / 非表示

  • 日本,放射性プルーム監視システムおよび放射性物質検出装置,浜口智志、出口智子、竹内正人、タム・アンディ、内田清志、加藤万寿夫、隅谷典久,2014-179899(出願),2014年09月

受賞 【 表示 / 非表示

  • 第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞,伊藤智子,関本奏子,浜口智志,日本質量分析学会,2014年05月

  • 第11回プラズマエレクトロニクス賞 ,Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, and Satoshi Hamaguchi,,応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会,2012年09月

  • Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process),Tomoko Ito,第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会,2010年11月